特許
J-GLOBAL ID：200903059727307265
蛍光X線分析装置の校正用の方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-000865
公開番号（公開出願番号）：特開平10-197461
出願日： 1997年01月07日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課 題】エネルギー分散型の蛍光X線分析装置において、装置の安定性維持と、検量線を作成するための作業がフローセルを試料セルに取換えることなく自動的に行え、測定に誤差を生じないようにすると共に、標準液に触れる危険性を解消する。【解決手段】既知元素を含有する校正試料による自動校正、及びフローセル12に試料を供給するライン24に洗浄液を供給するライン25と、空気を供給するライン26と、濃度の異なった標準液を供給するライン27a、27b・・27fを接続し、各ラインに制御装置16によって制御される電磁弁31を設ける。測定時にはフローセル12を洗浄液により洗浄し、空気を供給して乾燥したのち既知濃度の標準液を供給し、蛍光X線強度を測定する。この測定を濃度の異なる標準液でそれぞれ行い、検量線を作成する。
請求項（抜粋）：
X線管と、X線管から試料にX線を照射することによって発生する蛍光X線を検出する検出器を備えたエネルギー分散型の蛍光X線分析装置に用いられ、既知元素を含有する校正試料を測定することによりチャンネル数の校正を行う装置であって、回転可能に軸支される軸と、該軸を一定角度の範囲内で旋回させる回転装置と、回転装置を制御する制御装置と、校正試料を備え、上記軸に固着されるアームよりなり、制御装置からの制御信号により回転装置を駆動してアームを一定角度回転させ、校正試料をX線が照射される測定位置と、測定位置より退避した退避位置とに切換え可能としたことを特徴とする蛍光X線分析装置の校正用の装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/223
, G01N 1/00 C
