特許

J-GLOBAL ID：200903059736438887

ポリエチレン微多孔膜及びその製造方法

発明者： 開米 教光 ,  船岡 英彦 ,  小林 茂明 ,  滝田 耕太郎 ,  河野 公一
出願人/特許権者： 東燃化学株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007006
公開番号（公開出願番号）：特開2001-200082
出願日： 2000年01月14日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 高強度であるとともに、シャットダウン温度が低くメルトダウン温度が高いために、電池セパレーターとして使用する場合に高い安全性を発揮する架橋ポリエチレン微多孔膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 (a)重量平均分子量が5×105以上の超高分子量ポリエチレン、又は重量平均分子量が5×105以上の超高分子量ポリエチレンと重量平均分子量が1×104以上5×105未満の他のポリエチレンとの混合物、及び(b)重量平均分子量が1×103〜4×103の低分子量ポリエチレンを含み、(a)/(b)の重量比が95/5〜50/50であるポリエチレン組成物からなり、ゲル分率は10〜80%であるポリエチレン微多孔膜。

請求項（抜粋）：

(a)重量平均分子量が5×105以上の超高分子量ポリエチレン、又は重量平均分子量が5×105以上の超高分子量ポリエチレンと重量平均分子量が1×104以上5×105未満の他のポリエチレンとの混合物、及び(b)重量平均分子量が1×103〜4×103の低分子量ポリエチレンを含み、(a)/(b)の重量比が95/5〜50/50であるポリエチレン組成物からなるポリエチレン微多孔膜において、電離放射により架橋処理して製造され、ゲル分率は10〜80%であることを特徴とするポリエチレン微多孔膜。

IPC (5件)：

C08J 9/00 CES ,  C08J 3/28 CES ,  C08J 9/28 101 ,  C08L 23/06 ,  H01M 2/16

FI (5件)：

C08J 9/00 CES A ,  C08J 3/28 CES ,  C08J 9/28 101 ,  C08L 23/06 ,  H01M 2/16 P

Fターム (38件)：

4F070AA13 ,  4F070AA14 ,  4F070AB12 ,  4F070AB14 ,  4F070AB22 ,  4F070HA01 ,  4F070HA03 ,  4F070HA04 ,  4F070HA05 ,  4F070HB01 ,  4F070HB05 ,  4F070HB14 ,  4F074AA17 ,  4F074AA18 ,  4F074AA98 ,  4F074CA03 ,  4F074CB16 ,  4F074CC02Y ,  4F074CC06Z ,  4F074CC28Z ,  4F074CC29Z ,  4F074DA04 ,  4F074DA49 ,  4J002BB031 ,  4J002BB032 ,  4J002BB033 ,  4J002GQ00 ,  5H021BB01 ,  5H021BB02 ,  5H021BB05 ,  5H021BB09 ,  5H021BB13 ,  5H021BB15 ,  5H021CC00 ,  5H021EE04 ,  5H021EE23 ,  5H021HH01 ,  5H021HH07