特許
J-GLOBAL ID：200903059736471205
基板処理設備のための現場真空ライン清浄用平行平板装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-299059
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144669
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 基板処理チャンバの排出ライン内の堆積を最小にする装置を提供する。【解決手段】 この装置は、第1と第2の電極を備え、両電極の対向表面間に流体管路を画成している。前記流体管路は入口と、出口と、入口および出口間の収集チャンバとを持つ。この装置は、その入口において基板処理チャンバの排気を受けるように接続される。収集チャンバは流体管路中を流れる粒子状物質を収集し、収集チャンバから粒子状物質が流出しないように構成されている。プラズマ発生装置が上記両電極へ電力を供給し、流体管路内のエッチャントガスからプラズマを形成する。プラズマからの成分がチャンバ内に収集された粒子状物質と反応してガス状生成物となり、前記流体管路外へ排気される。この装置は、収集チャンバ内でのパーティクル収集能力を高めるため、および粒子状物質の流出を一層阻止するため、静電コレクタを更に備えることができる。
請求項（抜粋）：
基板処理チャンバから排出されるパーティクルを収集するための装置であって、それぞれが対向する表面を有する第1および第2の電極であって、この対向する表面は、これらの表面の間に流体管路を画成している、第1および第2の電極を備え、前記流体管路は、入口、出口および前記入口と前記出口との間に位置する収集チャンバを有しており、前記収集チャンバは、前記流体管路を通って流れる粒子状物質を収集し、前記粒子状物質が前記収集チャンバから流出することを阻止するように構成されている装置。
IPC (3件)：
H01L 21/31
, B03C 3/02
, H01L 21/205
H01L 21/31 C
, B03C 3/02 Z
, H01L 21/205
