特許

J-GLOBAL ID：200903059765937558

めっき浴の濃度管理方法およびその装置

発明者： 臼井 弘紀 ,  田辺 信夫 ,  岩崎 庄治
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-126485
公開番号（公開出願番号）：特開2002-322598
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 めっき浴中のめっき成分濃度を、めっき液を採取することなく、測定し、めっき成分濃度を規定値に保つ。【解決手段】 めっき浴に作用電極、対向電極および参照電極を浸し、これらの電極とポテンショスタットとを接続し、このポテンショスタットを用いて、めっき浴の分極曲線を測定し、この分極曲線から作用電極と対向電極との間の限界電流密度を求めて、さらにこの限界電流密度からめっき成分の濃度を求める。

請求項（抜粋）：

めっき浴中に作用電極、対向電極および参照電極を浸し、これらの電極とポテンショスタットとを接続し、このポテンショスタットを用いて、めっき浴の分極曲線を測定し、この分極曲線から作用電極と対向電極との間の限界電流密度を求めて、さらにこの限界電流密度からめっき浴中のめっき成分の濃度を求めることを特徴とするめっき浴の濃度管理方法。

IPC (3件)：

C25D 21/12 ,  G01N 27/26 361 ,  G01N 27/48 311

FI (3件)：

C25D 21/12 C ,  G01N 27/26 361 E ,  G01N 27/48 311