偏光解析方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064756
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264230
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：

【要約】【目的】偏光解析を行う光学装置において、ビームスプリッタの漏光を検出してその位置から光学系の姿勢制御を自動的に行う方法及び装置を得る。【構成】光源14からの入射光t0が試料面13で反射した反射光r0をビームスプリッタ67で反射光r1と透過光t2に分離して得られる各偏光成分t3,t4,t5を受光器23a,23b,23cで光強度を測定してエリプソパラメータψ,Δを決定するとともに、ビームスプリッタ67のd2面から反射する透過光r1の反射光r2を漏光として位置検出器24で検出し、この漏光の位置にもとづいて光学系の姿勢を自動的に制御する偏光解析方法とその装置。

請求項（抜粋）：

測定対象に入射した光の反射光からビームスプリッタを有する光学系で複数の光成分を抽出する手段と、抽出された該光成分を検出して解析を行ってエリプソパラメータを決定する手段と、前記ビームスプリッタからの漏光を検出して該漏光の位置から前記光学系の姿勢を制御する手段とを有することを特徴とする偏光解析方法。

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