特許

J-GLOBAL ID：200903059784329860

反射型マスクおよび露光装置

発明者： 坂本 英治 ,  松井 紳
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-172863
公開番号（公開出願番号）：特開2005-011914
出願日： 2003年06月18日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】EUV露光装置において、照明光学系、投影光学系の空間的設計自由度を向上する。【解決手段】反射型マスクのマスクアライメントマークを回路パターン面の反対面側に形成し、アライメント検出系をマスクに対して照明光学系、投影光学系の反対側に設置する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ウエハに転写するための回路パターンが基板表面に形成された反射型マスクにおいて、該回路パターンの形成されている基板面の反対面にマスクアライメントマークが形成されていることを特徴とする反射型マスク。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G03F1/16 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

FI (5件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  G03F7/20 503 ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 523

Fターム (24件)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BC16 ,  2H095BE03 ,  2H097AA02 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097JA02 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA20 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046EB02 ,  5F046FB01 ,  5F046GA03 ,  5F046GA12 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10