特許
J-GLOBAL ID：200903059791951674
集束イオンビーム装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-188458
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045521
出願日： 1993年07月29日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 イオンビームを集束レンズ系によって集束させつつターゲットに照射することにより、ターゲット表面にエッチングや蒸着等の微細加工を行う集束イオンビーム装置において、加工中にもターゲット表面の観察ができ、加工の自由度が高く、ビームの位置合わせが容易な集束イオンビーム装置を提供する。【構成】 イオン源1からのイオンビームを静電型の集束レンズ系3,6によって集束し、かつ、質量分離器4で所定イオンのみを抽出してそのイオンビームを偏向させつつ、ターゲット表面に照射する装置において、静電対物レンズ6に光学的な窓61を設け、かつ、その静電対物レンズ6と同軸上に光学式反射対物レンズを配置し、その光学式反射対物レンズ20からの光を結像光学系30に導いて結像させる構成とする。
請求項（抜粋）：
イオン源と、このイオン源からイオンをビーム状に引き出す引き出し電極と、その引き出されたイオンビームを集束させる複数の静電レンズからなる集束レンズ系と、上記イオン源から引き出されたイオンのうち所定のイオンのみを取り出す質量分離器と、ターゲットを支持するターゲットホルダと、上記質量分離器から取り出されたイオンビームを偏向させつつ上記ターゲットホルダに導くビーム走査手段を有する装置において、上記集束レンズ系の静電対物レンズに光を通過させる光学的な窓が設けら、かつ、その静電対物レンズと同軸上に光学式反射対物レンズが配設されているとともに、その光学式反射対物レンズからの光を結像するための光学系を備えていることを特徴とする集束イオンビーム装置。
IPC (8件)：
H01L 21/203
, G02B 21/18
, H01J 37/12
, H01J 37/22 502
, H01J 37/317
, H01L 21/265
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
H01L 21/265 D
, H01L 21/30 551
, H01L 21/302 D
