特許

J-GLOBAL ID：200903059793682026

異物検査装置

発明者： 山下 裕之
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248021
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057193
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】 被検査物表面の所定領域に形成されている所定の各種パターンのパターン領域別に当該パターンの障害とみなす異物サイズを認識できるようにする。【解決手段】 複数の所定領域WCにおいて所定の各種パターンが形成されてなる被検査物表面Wの状態を光学的に検出し、該被検査物表面の各所定領域毎に検出データを出力する検出手段8aと、前記検出データに基づき当該所定領域に形成されている各種パターンのパターン画像を生成する画像処理手段8bとを備える。制御手段9では、前記パターン画像に基づき、当該所定領域における前記各種パターンが配置されている各パターン領域毎に当該パターンの特徴に応じて障害とみなす異物サイズをそれぞれ算出し、該異物サイズに基づいて該各種パターンの各パターン領域を当該異物サイズの検出可能領域として表示する処理を行う。

請求項（抜粋）：

複数の所定領域において所定の各種パターンが形成されてなる被検査物表面の状態を光学的に検出し、該被検査物表面の各所定領域毎に検出データを出力する検出手段と、前記検出データに基づき当該所定領域に形成されている各種パターンのパターン画像を生成する画像処理手段と、前記パターン画像に基づき、当該所定領域における前記各種パターンが配置されている各パターン領域毎に当該パターンの特徴に応じて障害とみなす異物サイズをそれぞれ算出し、該異物サイズに基づいて該各種パターンの各パターン領域を当該異物サイズの検出可能領域として表示する処理を行う制御手段とを具えた異物検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F ,  G01B 11/24 K

Fターム (58件)：

2F065AA03 ,  2F065AA23 ,  2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065BB25 ,  2F065CC19 ,  2F065DD13 ,  2F065FF04 ,  2F065FF26 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH16 ,  2F065HH17 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065KK01 ,  2F065LL04 ,  2F065LL22 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR05 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AC04 ,  2G051BA10 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EC01 ,  2G051ED04 ,  2G051FA02 ,  4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106CA43 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ27 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DC04 ,  5B057DC36

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 異物欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-236510   出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社