特許
J-GLOBAL ID：200903059794992118
レジストのアッシング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-074115
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275326
出願日： 1992年03月30日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【構成】 プラズマを利用し、主としてラジカルを用いてレジストをアッシングするレジストのアッシング方法において、酸素とフッ素系との混合ガスによるプラズマを用いてイオン注入された部分のレジストを除去する工程と、酸素プラズマを用いて残存するレジストを除去する工程とを含んでいるレジストのアッシング方法。【効果】 酸素にフッ素系のガスを混合することにより、イオン注入された部分である硬化層の活性化エネルギーを下げ、アッシング速度を高めることができる。また残存するレジストは酸素プラズマを用いてウエハにダメージを与えることなく除去することができる。
請求項（抜粋）：
プラズマを利用したレジストのアッシング方法において、酸素とフッ素系との混合ガスによるプラズマを用いてイオン注入された部分のレジストを除去する工程と、酸素プラズマを用いて残存するレジストを除去する工程とを含んでいることを特徴とするレジストのアッシング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/302
