特許
J-GLOBAL ID：200903059803801355
平行平板型プラズマ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-200198
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047714
出願日： 1991年08月09日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【構成】 互いに対向して配置された上部電極11、下部電極12及びクランプ板23等を備え、上部電極11と下部電極12との間にRF電源25が接続され、RF電源25の各高調波成分における高調波含有率の合計が-30dB以下に設定されている平行平板型プラズマ装置。【効果】 大口径ウェハに微細加工を高歩留り、高スループットで施すことができる。
請求項（抜粋）：
互いに対向して配置された1次電極、2次電極及びウェハクランプ等を備え、前記上部電極と前記下部電極との間に高周波(以下RFと記す)電源が接続された平行平板型プラズマ装置において、前記RF電源の各高調波成分における高調波含有率の合計が-30dB以下に設定されていることを特徴とする平行平板型プラズマ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/46
