特許
J-GLOBAL ID:200903059805973153

新規のペンタエリトリルホスホネート及び自消性熱可塑性高分子組成物におけるそれらの使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-211290
公開番号(公開出願番号):特開平5-222079
出願日: 1992年08月07日
公開日(公表日): 1993年08月31日
要約:
【要約】 (修正有)【構成】 下記式(I) を有するペンタエリトリルジホスホネート。(式中、R1 はOH、OM、OR2 またはNR3R4 であり、MはZn、Ca、Mg、AlまたはTiであり、R2 はC1-C6 アルキル基、モノ-もしくはポリ-ヒドロキシレートC2-C6 アルキル基、R3 及びR4 は、H 、C1-C6 アルキル基、アミノ-またはヒドロキシ-置換C2-C6 アルキル基、複素環式残基であり、または一緒に1以上のヘテロ原子を含有して、窒素原子上に非芳香族複素環式構造を形成する。)【効果】 自消性添加剤として、優れた熱及び着色安定性を有し、チャー-形成活性の予期しない高い値を有する。
請求項(抜粋):
下記式(I) を有するペンタエリトリルジホスホネート。【化1】(式中、R1 はOH、OM、OR2 またはNR3R4 であり、MはZn、Ca、Mg、AlまたはTiであり、R2 は線状または分岐状のC1-C6 アルキル基、または線状または分岐状のモノ-もしくはポリ-ヒドロキシレートC2-C6 アルキル基であり、R3 及びR4 は、同一もしくは異なっていて、H 、線状または分岐状のC1-C6 アルキル基、線状または分岐状のアミノ-またはヒドロキシ-置換C2-C6 アルキル基、複素環式残基であり、または一緒に、場合によっては1またはそれ以上のさらなるヘテロ原子を含有して、窒素原子上に非芳香族複素環式構造を形成する。)
IPC (3件):
C07F 9/6574 ,  C08K 5/5333 KCC ,  C08L101/00

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