特許

J-GLOBAL ID：200903059806331520

レジスト組成物及びレジスト組成物の使用方法

発明者： 斉藤 雅夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-255784
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083064
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】 アルキルシリル基を保護基とするレジストを含むレジスト組成物であって、剥離を容易に行える実用化可能なものを提供し、また、容易に剥離を行える該レジスト組成物の使用方法を提供する。【構成】 ?@酸により保護基が外れて現像剤に対する溶解性が異なるに至るレジストであって、アルキルシリル基を保護基とするレジストに、スルホラン系化合物を添加したレジスト組成物。?Aアルキルシリル基を保護基とするレジストにスルホラン系化合物を添加したレジスト組成物を用い、露光、現像後、SO2 雰囲気下に置き、水分を付与して、適宜加熱、アッシングを行って、レジスト組成物の剥離を行う。

請求項（抜粋）：

酸により保護基が外れて現像剤に対する溶解性が異なるに至るレジストであって、アルキルシリル基を保護基とするレジストに、スルホラン系化合物を添加したレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 R