特許
J-GLOBAL ID:200903059810617144

側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ(フェニレン)およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-101618
公開番号(公開出願番号):特開平10-292034
出願日: 1997年04月18日
公開日(公表日): 1998年11月04日
要約:
【要約】【課題】 新規なエチレンオキシド鎖を有するポリ(フェニレン)およびその工業的に有利な製造方法を提供する。【解決手段】 下記一般式[1]で表されるエチレンオキシド鎖を有するポリ(フェニレン)、および下記一般式[3]で表わされるジアルコキシベンゼンを酸化重合するエチレンオキシド鎖を有するポリ(フェニレン)の製造方法にかかるものである。(式中、R1は下記一般式[2]で表わされるエチレンオキシド鎖を表わし、R2は炭素数1〜10の炭化水素基または下記一般式[2]で表わされるエチレンオキシド鎖を表わし、nは平均の重合度で2以上の数を表わす。)(式中、R3〜R6は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を表わし、R7は炭素数1〜10の炭化水素基を表わす。mは1〜10の整数である。)(式中、R1およびR2はそれぞれ前記と同じである。)
請求項(抜粋):
下記一般式[1]で表されることを特徴とするエチレンオキシド鎖を有するポリ(フェニレン)。(式中、R1は下記一般式[2]で表わされるエチレンオキシド鎖を表わし、R2は炭素数1〜10の炭化水素基または下記一般式[2]で表わされるエチレンオキシド鎖を表わし、nは平均の重合度で2以上の数を表わす。)(式中、R3〜R6は水素原子または炭素数1〜10の炭化水素基を表わし、R7は炭素数1〜10の炭化水素基を表わす。mは1〜10の整数である。)

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