特許
J-GLOBAL ID:200903059816944228

充填層を用いた下水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 名嶋 明郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-230236
公開番号(公開出願番号):特開平6-071291
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月15日
要約:
【要約】【目的】 広いスペースや大容量のポンプを必要とせず、高い脱窒率で下水の高度処理を行うことができる下水処理装置を提供すること。【構成】 槽体1の内部を垂直な隔壁2により2分して好気槽4と嫌気槽5とし、槽底部に支持層6を設けて充填層7、8をそれぞれ支持させる。第1の発明では被処理水流入側を好気槽4とし、嫌気槽5に隣接させてU字状流路12を設け、その下部にオゾン供給器13を設ける。第2の発明では被処理水流入側を嫌気槽5とし、隔壁2の上端の流通部14を通じて好気槽4側へ消化液循環を行わせる。
請求項(抜粋):
槽体の内部を下端に流通部を持つ垂直な隔壁により2分して被処理水流入側の好気槽と流出側の嫌気槽とし、槽体の槽底部に支持層を設けて好気槽側と嫌気槽側の充填層をそれぞれ支持させ、好気槽の支持層の直上位置には散気配管を設け、嫌気槽の支持層の直上位置にはメタノール注入管を設けるとともに、嫌気槽に隣接させてU字状流路を設け、その下部にオゾン供給器を設けたことを特徴とする充填層を用いた下水処理装置。
IPC (5件):
C02F 3/34 101 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78 ,  C02F 3/06 ,  C02F 9/00
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-045792
  • 特開昭56-081197
  • 特開昭54-108458

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