特許

J-GLOBAL ID：200903059821909155

熱処理装置

発明者： 菅野 聡一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-047952
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219435
出願日： 1996年02月09日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】 被処理体を予め加熱された処理室内に水平方向から挿入する際の挿入時差による被処理体の面内温度差を可及的に低減する。【解決手段】 被処理体Wを支持する支持部20を有する移載機構19により、上記被処理体Wを予め加熱された処理室10内に水平方向から挿入移載して熱処理する熱処理装置において、上記支持部20の熱容量または吸熱特性を挿入時差による上記被処理体Wの面内温度差を低減すべく挿入方向に変化させてなる。

請求項（抜粋）：

被処理体を支持する支持部を有する移載機構により、上記被処理体を予め加熱された処理室内に水平方向から挿入移載して熱処理する熱処理装置において、上記支持部の熱容量または吸熱特性を、挿入時差による上記被処理体の面内温度差を低減すべく挿入方向に変化させてなることを特徴とする熱処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

FI (6件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 A ,  H01L 21/22 501 B ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/324 D