ブタンジオール、ブチロラクトン及びテトラヒドロフランの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：古谷馨 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-537838
公開番号（公開出願番号）：特表2002-507587
出願日： 1999年03月19日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】ブタン-1,4-ジオール、γ-ブチロラクトン又はテトラヒドロフランを、C4ジカルボン酸誘導体の気相水素化によって製造する。蒸気流を含む無水マレイン酸を、吸収ゾーンにおいて第1の高沸点溶媒と接触させる。廃棄ガス流は第2の、より高沸点の溶媒を含むスクラビングゾーンへと送られる。該廃棄ガスはパージされ、第1及び第2の高沸点溶媒は回収されてリサイクルされる。無水マレイン酸が吸収ゾーンより得られ、マレイン酸ジエステルへと変換される。これは第1の溶媒から水素と共に取り除かれる。水素化により、所望の生成物が得られる。

請求項（抜粋）：

ブタン-1,4-ジオール、γ-ブチロラクトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1つのC4化合物を製造する方法であって、不均質水素化触媒の存在下でのC4カルボン酸誘導体の気相における水素化工程を含み、該C4カルボン酸誘導体は無水マレイン酸、C1〜C4カルボン酸誘導体のジ-(C1〜C4アルキル)エステルから選択され、(a) 吸収ゾーンにおいて、大気圧における沸点が無水マレイン酸の沸点よりも少なくとも約30°C高い第1の高沸点溶媒に、無水マレイン酸蒸気、水蒸気、及び酸化炭素類を含む蒸気流(vaporous stream)を接触させ、これにより、無水マレイン酸の第1の高沸点溶媒溶液を生成し;(b) 吸収ゾーンから、前記第1の高沸点溶媒の少量を含む廃棄ガス流を回収し;(c) スクラビングゾーンにおいて前記工程(b)の廃棄ガス流を、大気中における沸点が前記第1の高沸点溶媒の沸点よりも少なくとも約30°C高い第2の高沸点溶媒に接触させ、これにより、第1の高沸点溶媒の第2の高沸点溶媒中の溶液を形成し、且つ洗浄された廃棄ガスを生じ;(d) 工程(a)にリサイクルするために、前記工程(c)溶液から第1の高沸点溶媒を回収し;(e) 残余の第2の高沸点溶媒を工程(d)から工程(c)へリサイクルし;(f) 工程(c)の洗浄された廃棄ガスをパージし;(g) 前記工程(a)の前記溶液中の無水マレイン酸を、必要であれば、前記C4カルボン酸誘導体へ変換し;(h) 前記C4カルボン酸誘導体の前記第1の高沸点溶媒中の溶液を、水素を含むガス流に接触させ、これにより前記C4カルボン酸誘導体をそれからストリップし、水素と前記C4カルボン酸誘導体を含む蒸気流を形成し;(i) 水素化ゾーンにおいて工程(h)の蒸気流の物質を水素化条件下で不均質水素化触媒に接触させ、これにより、前記C4カルボン酸誘導体を、ブタン-1,4-ジオール、γ-ブチロラクトン及びテトラヒドロフランから選択される少なくとも1つのC4化合物へと転化し;及び(j) 水素化ゾーンから前記少なくとも1つのC4化合物を含む生成物流を回収する、ことを含む方法。

IPC (8件)：

C07C 31/20 , C07B 61/00 300 , C07C 29/149 , C07C 29/17 , C07D307/08 , C07D307/20 , C07C 67/08 , C07C 69/60

FI (8件)：

C07C 31/20 B , C07B 61/00 300 , C07C 29/149 , C07C 29/17 , C07D307/08 , C07D307/20 , C07C 67/08 , C07C 69/60

Fターム (29件)：

4C037BA01 , 4C037DA04 , 4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006AC46 , 4H006AC48 , 4H006AD11 , 4H006BA05 , 4H006BA12 , 4H006BA30 , 4H006BB17 , 4H006BC11 , 4H006BC12 , 4H006BC13 , 4H006BC19 , 4H006BC31 , 4H006BD35 , 4H006BD51 , 4H006BD70 , 4H006BD80 , 4H006BD84 , 4H006BE20 , 4H006BE30 , 4H006FE11 , 4H006FG28 , 4H039CA42 , 4H039CA60 , 4H039CB40 , 4H039CH20

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭49-086319
特開昭56-086180
特開平1-127042

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