特許
J-GLOBAL ID：200903059827444987
放射線硬化性組成物、その硬化方法及びパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016193
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211616
出願日： 1995年02月02日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【目的】 硬化に伴なう重量減少が非常に少なく、低い強度の放射線による硬化が可能で、かつ耐熱性を有する硬化物を与える放射線硬化性組成物、その製法及びこれを利用したパターン形成方法を提供する。【構成】 放射線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、この塩基の作用で水酸基と反応しケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2 )を形成しうるケイ素水素結合(Si-H)を有する重合体分子とを含む硬化性組成物。この組成物に放射線を照射して硬化させる。この放射線照射時に上記組成物の皮膜と放射線源の間にマスクを置き、未硬化の組成物を溶解除去してパターン形成する。
請求項（抜粋）：
(イ)放射線の作用により塩基を発生する塩基発生物質と、(ロ)この塩基の作用で水酸基(OH)と反応しケイ素酸素結合(Si-O)と水素分子(H2 )を形成しうるケイ素水素結合(Si-H)を有する重合体分子とを含む硬化性組成物であって、(イ)の塩基発生物質がベンジルカルバメイト化合物、ベンゾインカルバメイト化合物、O-カルバモイルヒドロキシアミン類、O-カルバモイルオキシム類、芳香族スルホンアミド類、α-ラクトン類、N-(2-アリルエテニル)アミド類、アリールアジド化合物類、N-アリールホルムアミド類、および4-(o-ニトロフェニル)ジヒドロピリジン類から選ばれたものであり、これが全重量に対し、0.01〜50wt%の範囲で含まれ、(ロ)の重合体分子が、3個又は2個のケイ素酸素結合と1つのケイ素水素結合(Si-H)を有するケイ素原子を、重合体1分子当たり少なくとも平均2個持っており、その重合体分子がアルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等に代表される有機レジン類のシリコーン変性有機樹脂及びシリコーン重合体分子から選ばれる、前記硬化性組成物。
IPC (15件)：
G03F 7/075 511
, G03F 7/075 501
, C08K 5/07 KAQ
, C08K 5/16
, C08K 5/20 KBA
, C08K 5/28 KBC
, C08K 5/32 KBE
, C08K 5/33
, C08K 5/3415 KBG
, C08K 5/42 KBU
, C08L 83/04 LRS
, C08L101/10 KAX
, C09D 5/00 PNV
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
