安定な抗日光化粧品組成物とその製造方法並びにその使用方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-029902
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252124
出願日： 1995年02月17日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】皮膚および/または髪を紫外線から防御するために意図された、安定な抗日光化粧品組成物とその製造方法並びに化粧処理方法を提供する。【構成】油性相を構成する小球体の平均粒径が100nm〜1000nmであるO/W型エマルションの媒体中に、光防御剤として金属酸化物を主成分とする無機微小顔料を含有する、皮膚および/または髪の光防御のために局部的に使用される抗日光化粧品組成物であって、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属の少なくとも一種の混合ケイ酸塩を含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

油相を構成する小球体の平均粒径が100nm〜1000nmである化粧品として許容可能なO/W型エマルションのビヒクル中に、光防御剤として金属酸化物を主成分とする無機微小顔料を含有する、皮膚および/または髪の光防御等のために局部的に使用される抗日光化粧品組成物であって、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属の少なくとも一種の混合ケイ酸塩を含有することを特徴とする抗日光化粧品組成物。

引用特許：

審査官引用 (9件)

ジオルガノポリシロキサンミクロエマルジヨンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-325346 出願人：信越化学工業株式会社
特開昭59-203633
特開昭63-150221

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