特許
J-GLOBAL ID：200903059830025448
墨出し装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤川 忠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158770
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029169
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【構成】 ビーム投射器1が装置基台2に枢支部4を介して揺動自在に枢支されると共に、複数の支持脚5が装置基台2に取付けられてなる墨出し装置であって、枢支部4は、球心Oがビーム投射器1の中心軸線Lを通るように当該投射器1の上端部に設けられた大径球状軸部6と、この大径球状軸部6の下半部側周辺に周方向一定間隔に配置されて、大径球状軸部6と点接触する複数の小径球体7と、装置基台2側に設けられた環状の球体受け溝8とからなり、球体受け溝8は、各球体7を点接触状態で溝幅方向に転動変移可能に受支するように、球体7の半径よりも曲率半径の大きい横断面円弧状に形成されている。【効果】 ビーム投射器を短時間で鉛直位置に静止させることができると共に、装置の小型化と軽量化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
上下両端から中心軸線Lに沿ってビームを投射するビーム投射器1が、装置基台2の中央開口部3に枢支部4を介して揺動自在に枢支されると共に、複数の支持脚5が装置基台2に取付けられてなる墨出し装置において、前記ビーム投射器1は、少なくとも上端からレーザービームが投射されるように構成され、前記枢支部4は、球心Oがビーム投射器1の中心軸線Lを通るように当該投射器1の上端部に設けられた大径球状軸部6と、この大径球状軸部6の下半部側周辺に周方向一定間隔に配置されて、当該軸部6の球面6aと点接触する複数の小径球体7と、装置基台2の中央開口部3側に設けられた環状の球体受け溝8とからなり、前記球体受け溝8は、各球体7を点接触状態で溝幅方向に転動変移可能に受支するように、球体7の半径よりも曲率半径の大きい横断面円弧状に形成されていることを特徴とする墨出し装置。
IPC (2件)：
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