特許
J-GLOBAL ID：200903059846679685
1,6-ヘキサンジオールの製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-218538
公開番号（公開出願番号）：特開平11-060524
出願日： 1997年08月13日
公開日（公表日）： 1999年03月02日
要約：
【要約】【課題】 1,6-ヘキサンジオールの製造法を提供する。【解決手段】 アジピン酸、オキシカプロン酸又はカプロラクトンを、GHSV10000hr-1以下、温度260°C以上の条件下で水素で還元する工程を経て調製された担体付Ru-Sn触媒の存在下、液相中で水素で還元する。
請求項（抜粋）：
アジピン酸、オキシカプロン酸及びカプロラクトンから選ばれた化合物を、ルテニウム及び錫を担体に担持した触媒の存在下、液相中で水素と反応させて1,6-ヘキサンジオールを製造する方法において、触媒として、10000/hr以下のガス空間速度及び260°C以上の温度において、水素で還元処理した触媒を用いることを特徴とする、1,6-ヘキサンジオールの製造法。
IPC (4件)：
C07C 31/20
, B01J 23/62
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
C07C 31/20 Z
, B01J 23/62 X
, C07C 29/149
, C07B 61/00 300
