特許

J-GLOBAL ID：200903059852631066

高分子膜への炭素薄膜の形成方法およびこの方法を利用した固体高分子型燃料電池の製造方法

発明者： 中西 治通
出願人/特許権者： ダイハツ工業株式会社
代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-165328
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353529
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 撥水シート上に確実に炭素薄膜を形成するとともに、この炭素薄膜を精度良く高分子膜に転写できる方法、およびこの方法を利用して製造される固体高分子型燃料電池を提供する。【解決手段】 撥水性に優れるブランクシート2に炭素薄膜20を形成した後に、この炭素薄膜20を高分子膜43に転写することにより行われる高分子膜への炭素薄膜の形成方法において、高分子膜43への炭素薄膜20の転写を、ブランクシート2と高分子膜43とを異なる温度に加熱した状態、たとえば高分子膜43の加熱温度を当該高分子膜43のガラス転移温度よりも低い温度とし、ブランクシート2の加熱温度を、高分子膜43のガラス転移温度よりも高く、当該ブランクシート2の融点よりも低い温度に加熱した状態で炭素薄膜20を高分子膜43に押圧した後、ブランクシート2を剥離することにより行われる。

請求項（抜粋）：

撥水性に優れるブランクシートに炭素薄膜を形成した後に、この炭素薄膜を高分子膜に転写することにより行われる高分子膜への炭素薄膜の形成方法であって、高分子膜への炭素薄膜の転写は、ブランクシートと高分子膜とを異なる温度に加熱した状態で炭素薄膜を高分子膜に押圧した後、高分子膜からブランクシートを剥離することにより行われることを特徴とする、高分子膜への炭素薄膜の形成方法。

IPC (2件)：

H01M 4/88 ,  H01M 8/10

FI (2件)：

H01M 4/88 C ,  H01M 8/10

Fターム (28件)：

5H018AA06 ,  5H018AS01 ,  5H018BB00 ,  5H018BB01 ,  5H018BB03 ,  5H018BB06 ,  5H018BB08 ,  5H018CC06 ,  5H018DD08 ,  5H018EE05 ,  5H018EE17 ,  5H018EE18 ,  5H018HH08 ,  5H018HH09 ,  5H018HH10 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB02 ,  5H026BB03 ,  5H026BB04 ,  5H026CC03 ,  5H026CX04 ,  5H026EE05 ,  5H026EE18 ,  5H026EE19 ,  5H026HH08 ,  5H026HH09 ,  5H026HH10