特許

J-GLOBAL ID：200903059855118998

高度の焼結安定性を有する担持触媒及びその製造方法

発明者： アルフレート・ハゲメイアー ,  ハラルト・ヴェルナー ,  ウヴェ・ディンゲルディッセン ,  クラウス・キューライン ,  ジョン・ミューリグ・トーマス
出願人/特許権者： ヘキスト・リサーチ・アンド・テクノロジー・ドイチュラント・ゲーエムベーハー・ウント・コンパニー・カーゲー
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293160
公開番号（公開出願番号）：特開平11-192432
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 金属が良好な間隔を保ち、長期間の操作後も高い活性をもち、燒結安定性である、担体触媒を提供する。【解決手段】 高い燒結安定性を有し、1種またはそれ以上の式(1)の貴金属クラスターカルボニル化合物:[HaMbNcLd(CO)x]n-An+[式中、MおよびNは、互いに独立してPt、Rh、Ir、Os、Ru、Ag、Pd、Au、Ni、Fe、Co、Cu、Re、Mnよりなる群から選択される1またはそれ以上の金属であり;Lは同一でも異なってもよい1またはそれ以上の中性またはアニオン性配位子であり;(A)n+は錯体の電荷バランスをとる1またはそれ以上のカチオンであり;aは0〜10、好ましくは0〜6の整数であり;bは2〜60の整数であり;cは0〜30の整数であり;dは0〜60の整数であり;xは1〜120の整数であり;nは成分の個々の電荷により生じる錯体の総電荷であり、0より大きい]を含み、式(1)の化合物が中間孔質担体材料の細孔内にある担体触媒。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 高い燒結安定性を有し、1種またはそれ以上の式(1)の貴金属クラスターカルボニル化合物:[HaMbNcLd(CO)x]n-An+[式中、MおよびNは、互いに独立してPt、Rh、Ir、Os、Ru、Ag、Pd、Au、Ni、Fe、Co、Cu、Re、Mnよりなる群から選択される1またはそれ以上の金属であり;Lは同一でも異なってもよい1またはそれ以上の中性またはアニオン性配位子であり;(A)n+は錯体の電荷バランスをとる1またはそれ以上のカチオンであり;aは0〜10の整数であり;bは2〜60の整数であり;cは0〜30の整数であり;dは0〜60の整数であり;xは1〜120の整数であり;nは成分の個々の電荷により生じる、錯体の総電荷であり、0より大きい]を含み、式(1)の化合物が中間孔質担体材料の細孔内にある担体触媒。

IPC (2件)：

B01J 31/20 ,  C07B 35/00

FI (2件)：

B01J 31/20 M ,  C07B 35/00