特許
J-GLOBAL ID：200903059866156280
低活性高分子成形品の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-101673
公開番号（公開出願番号）：特開平5-271445
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：
【要約】【目的】 有害な紫外線吸収性溶剤の使用量を極力低く抑え、かつ低コストで簡単な処理操作により、被処理品の表面に均一な親水性を付与することのできる低活性高分子成形品の表面処理方法を提供する。【構成】 紫外線吸収性溶剤を所定量溶かしてなる低級アルコールを脱脂液とし、該脱脂液中に低活性高分子成形品を所定温度で所定時間浸漬し、しかる後に、300nm以下の光を主波長とする低圧水銀ランプを用いて紫外線照射を行うことを少なくとも含む低活性高分子成形品の表面処理方法とした。
請求項（抜粋）：
紫外線吸収性溶剤を所定量溶かしてなる低級アルコールを脱脂液とし、該脱脂液中に低活性高分子成形品を所定温度で所定時間浸漬し、しかる後に、300nm以下の光を主波長とする低圧水銀ランプを用いて紫外線照射を行うことを少なくとも含む低活性高分子成形品の表面処理方法。
IPC (2件)：
C08J 7/00 304
, C08J 7/00
