特許

J-GLOBAL ID：200903059869629146

無電解ニッケルめっき浴の再生方法

発明者： 松井 冨士夫
出願人/特許権者： 上村工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-083316
公開番号（公開出願番号）：特開平5-247660
出願日： 1992年03月05日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【構成】 水溶性ニッケル塩、錯化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含み、かつめっきにより次亜リン酸又はその塩が酸化して生成した亜リン酸イオンを100g/l以上含有する無電解ニッケルめっき浴の老化液に、水溶性ニッケル塩を上記亜リン酸イオン1モルに対し、0.5モル以上の割合で添加して亜リン酸ニッケルを生成沈殿させ、この沈殿物を除去することを特徴とにする無電解ニッケルめっき浴の再生方法。【効果】 本発明によれば、亜リン酸イオンが多量に蓄積した老化Ni-P浴から亜リン酸イオンを不純物を導入することなく簡単かつ確実にしかも安価に除去し、Ni-P浴を再生し得る。

請求項（抜粋）：

水溶性ニッケル塩、錯化剤及び還元剤として次亜リン酸又はその塩を含み、かつめっきにより次亜リン酸又はその塩が酸化して生成した亜リン酸イオンを100g/l以上含有する無電解ニッケルめっき浴の老化液に、水溶性ニッケル塩を上記亜リン酸イオン1モルに対し、0.5モル以上の割合で添加して亜リン酸ニッケルを生成沈殿させ、この沈殿物を除去することを特徴とする無電解ニッケルめっき浴の再生方法。

FI (3件)：

D06M 15/70 ,  D06M 15/15 ,  D06M 15/564

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-042438
  
• 特開昭59-063128
  
• 特開昭54-049891