特許

J-GLOBAL ID：200903059869827428

堆積膜形成方法

発明者： 山田 克彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-201092
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029227
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 従来排気されていた原料ガスを有効に用いて堆積膜を作成する。【構成】 成膜室に間欠的に原料ガスを供給することで堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、原料ガスを供給する期間tD と間欠動作の1周期の期間(tD +tA )との比に応じた数の成膜室を設け、単一の原料ガス供給源より各成膜室に時分割的に原料ガスを供給する。

請求項（抜粋）：

成膜室に間欠的に原料ガスを供給することで堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、原料ガスを供給する期間と間欠動作の1周期の期間との比に応じた数の成膜室を設け、単一の原料ガス供給源より各成膜室に時分割的に原料ガスを供給することを特徴とする堆積膜形成方法。