特許
J-GLOBAL ID:200903059870775270

エッチング液の再生方法および再生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 徳廣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-149712
公開番号(公開出願番号):特開平6-336683
出願日: 1993年05月28日
公開日(公表日): 1994年12月06日
要約:
【要約】【目的】 良好なパターニングが得られる液組成を維持し、高価なヨウ化水素酸の使用量の削減も可能とするエッチング液の再生方法及び再生装置を提供する。【構成】 液晶表示素子用基板の表面にエッチングにより透明電極パターンを形成するのに用いるエッチング液の再生方法において、少なくともエッチング液がヨウ化水素酸・塩化第二鉄からなる混合液に対し、塩酸と水を補充するエッチング液の再生方法。塩酸と水の補充量を再生前後のエッチング液の塩素イオン濃度と比重から算出する。エッチング液への塩酸と水の補充は、上記の方法により算出された割合で塩酸と水を混合した後にエッチング液に添加する。
請求項(抜粋):
液晶表示素子用基板の表面にエッチングにより透明電極パターンを形成するのに用いるエッチング液の再生方法において、少なくともエッチング液がヨウ化水素酸・塩化第二鉄からなる混合液に対し、塩酸と水を補充することを特徴とするエッチング液の再生方法。
IPC (3件):
C23F 1/46 ,  C04B 41/91 ,  G02F 1/1343
引用特許:
審査官引用 (3件)

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