特許

J-GLOBAL ID：200903059904878162

電 極

発明者： 高橋 主人
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-060561
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251985
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】パルス状のバイアス電圧が印加された場合にもバイアス電圧がウエハ面内で均一に印加されるように電極を構成する.【解決手段】ウエハ載置面の静電吸着絶縁膜をウエハ径より広い部分で一様な膜厚で形成し,ウエハ径より外の電極面のイオン照射損傷を防止するため,遮蔽リングを設けた.【効果】ウエハ面内の絶縁膜が一様となるので,パルス状のバイアスでもウエハ面内に均一に印加できる.

請求項（抜粋）：

プラズマ処理装置の被処理物載置用電極において、前記被処理物にバイアス電圧を印加することによりプラズマからイオンを引き込む方法をパルス波形の電圧印加とし、前記被処理物載置用電極の被処理物に対向する部分を略平坦とし、前記被処理物の裏面が前記電極の平坦部とほぼ平行となるか両者が接触するようにして被処理物を電極平坦部に載置し、かつ前記被処理物の被処理面側の外周部に対向して近接あるいは接触するようにイオン遮蔽部を設けたことを特徴とするプラズマ処理用の電極。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/68 R