特許

J-GLOBAL ID：200903059907905942

電磁場処理水を製造・供給する装置

発明者： 本間 昭治
出願人/特許権者： 有限会社フレッシュテック
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059899
公開番号（公開出願番号）：特開平9-220578
出願日： 1996年02月13日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【目的】 水のスケール対策を必要とする熱交換器機類にたいする、薬剤洗浄(化学洗浄)に代わる水処理方式として電磁場による水処理があるが、この処理された水を常時製造・供給する装置。例えばボイラー等の軟水器としての使用等。【構成】 装置は電磁場処理水の循環回路と、需要発生にたいし自動的に補給水を補給することが出来る需要・補給回路、そして、それら需要・補給水と循環処理水が混ざり合い、製造された電磁場処理水の循環・保管を兼ねた水槽よりなる。この水槽には連続10回程度、電磁場水処理器1を循環した処理水が循環・保管されている。したがつて、需要に連動し、十分に処理された電磁場処理水を、必要時に、必要量だけ常時製造し供給することが出来る装置。

請求項（抜粋）：

装置は水槽を中心として、電磁場処理水の循環水20の回路と、補給水18と連動する需要水19の回路より成り、循環する電磁場処理水で満たされた水槽から、需要に応じ需要水19を常時供給出来る独立した装置。

IPC (3件)：

C02F 1/48 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00

FI (4件)：

C02F 1/48 B ,  C02F 1/48 A ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 A