特許
J-GLOBAL ID：200903059910533150
多層マルチリーフコリメータ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-519924
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509898
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：
【要約】放射ビーム(20)を所与のビーム方向に提供する放射システム(10)において使用するためのマルチリーフコリメータ(12)であって、複数の放射遮断リーフ(32)の第1の層(30)を含み、リーフ(32)は隣接して位置づけられたリーフ(32)の2つの対向する列を形成するように互いに隣接して配置され、かつリーフ(32)の対向する端部間に放射ビーム整形フィールド(36)を規定するように一般にビーム方向に対して横断方向である長さ方向(Y)(34)に可動であり、前記コリメータはさらに、複数の放射遮断リーフ(42)の第2の層(40)を含み、第2の層(40)のリーフ(42)は隣接して位置づけられたリーフ(42)の2つの対向する列を形成するように互いに隣接して配置され、かつ第2の層(40)のリーフ(42)の対向する端部間に放射ビーム整形フィールド(46)を規定するようにビーム方向に対して一般に横断方向である交差方向(X)(44)に可動であり、また長さ方向(Y)(34)に対して角度をつけられ、前記コリメータはさらに、第1の層(30)のリーフ(32)を長さ方向(Y)(34)に動かし、かつ第2の層(40)のリーフ(42)を交差方向(X)(44)に動かすためのアクチュエータ装置(38、48)を含み、第1(30)および第2(40)の層がビーム方向に重なり合う態様で順に配置される。
請求項（抜粋）：
放射ビーム(20)を所与のビーム方向に提供する放射システム(10)において使用するためのマルチリーフコリメータ(12)であって、 複数の放射遮断リーフ(32)の第1の層(30)を含み、前記リーフ(32)は隣接して位置づけられたリーフ(32)の2つの対向する列を形成するように互いに隣接して配置され、かつリーフ(32)の対向する端部間に放射ビーム整形フィールド(36)を規定するようにビーム方向に対して一般に横断方向である長さ方向(Y)(34)に可動であり、前記コリメータはさらに、 複数の放射遮断リーフ(42)第2の層(40)を含み、前記第2の層(40)の前記リーフ(42)は隣接して位置づけられたリーフ(42)の2つの対向する列を形成するように互いに隣接して配置され、かつ前記第2の層(40)のリーフ(42)の対向する端部間に放射ビーム整形フィールド(46)を規定するようにビーム方向に対して一般に横断方向である交差方向(X)(44)に可動であり、さらに前記長さ方向(Y)(34)に対して角度をつけられ、前記コリメータはさらに、 前記第1の層(30)の前記リーフを長さ方向(Y)(34)に動かしかつ前記第2の層(40)の前記リーフ(42)を交差方向(X)(44)に動かすためのアクチュエータ装置(38、48)を含み、前記第1の層(30)および第2の層(40)はビーム方向に重なり合う態様で順に配置されるマルチリーフコリメータ(12)。
引用特許：
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