特許
J-GLOBAL ID：200903059911869411
X線光電子分光装置およびX線光電子分光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-335938
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153826
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】 試料上の任意の形状の微小領域のXPS分析を実現する。【解決手段】 試料表面の絶縁膜0203中にある、微小分析点0200を含む測定領域0201と、測定領域0201の近傍にあって微小分析点0200を含まないこと以外は組成、構造が測定領域0201に等しい参照領域0202にX線を交互に照射する。X線照射によって、測定領域0201および参照領域0202より個別に放出された光電子0205および0206を、検出器0108によって捕獲することによって得られた2つのXPSスペクトルの差よりなる差分XPSスペクトルを求めることで、測定領域中の微小分析点のXPSスペクトルを得る。
請求項（抜粋）：
X線発生部で発生させたX線を試料表面に照射した時に該試料表面から放出される光電子信号を捕獲する検出器を備えたX線光電子分光装置であって、前記試料表面の少なくとも二箇所の領域に前記X線を照射し、前記少なくとも二箇所の領域から放出された光電子信号を個別に捕獲し、前記光電子信号の差分を算出する手段を有することを特徴とするX線光電子分光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/227
, G21K 5/02 X
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001AA05
, 2G001BA05
, 2G001BA08
, 2G001CA01
, 2G001CA03
, 2G001DA01
, 2G001EA01
, 2G001EA04
, 2G001FA12
, 2G001GA01
, 2G001GA09
, 2G001HA01
, 2G001JA02
, 2G001JA03
, 2G001KA01
, 2G001KA12
