特許
J-GLOBAL ID：200903059918393285
弾性表面波装置の製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮▼崎▲ 主税 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-163655
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 薄膜形成に際しての煩雑な膜厚調整を必要とせずに、高精度にかつ容易に所望とする周波数特性の表面波装置を製造することを可能とする方法を提供する。【解決手段】 圧電性基板2上にIDT3を形成し、さらにIDT3を被覆するように無機もしくは有機材料よりなる被覆層4を形成した後、該被覆層4をレーザ装置5を用いてレーザ光6を照射することにより研磨し、それによって周波数調整を行う、弾性表面波装置の製造方法。
請求項（抜粋）：
圧電性基板にインターデジタル電極及びインターデジタル電極を被覆する無機もしくは有機材料よりなる被覆層を形成してなる弾性表面波装置の製造方法であって、前記無機もしくは有機材料よりなる被覆層を形成した後に、該被覆層をレーザで削ることにより周波数調整することを特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
