特許
J-GLOBAL ID：200903059919510226
位相型光導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-211870
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052156
出願日： 1997年08月06日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 正確に調整された比屈折率差を備えた光導波路装置とその製造方法を提供するものである。【解決手段】 基板3上にクラッドとなるべきクラッドガラス層2d、2uが形成され、クラッドガラス層2d、2u中にクラッドより高屈折率の複数本のコア1a、1bが埋め込まれ、少なくとも1つの入力ポートと1つの出力ポートを有する位相型光導波路において、少なくとも1本のコア1a又はコア1a周辺のクラッドににX線を照射してコア又はクラッドの屈折率を変化せしめて、コアとクラッド間を伝搬する光の位相を調整すものである。
請求項（抜粋）：
基板上にクラッドとなるべきクラッドガラス層が形成され、前記クラッドガラス層中にクラッドより高屈折率の複数本のコアが埋め込まれ、少なくとも1つの入力ポートと1つの出力ポートを有する位相型光導波路において、前記複数本のコアの中、少なくとも1本のコア又は当該コア周辺のクラッドにX線を照射して前記コア又は前記クラッドの屈折率を変化せしめて、前記コアと前記クラッドとの間を伝搬する光の位相が調整されたことを特徴とする位相型光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
