特許
J-GLOBAL ID：200903059925073857

紫外線消毒装置およびそれを用いた消毒システム

発明者：
小林 伸次

小林 伸次 について

, 
波多野 晶紀

波多野 晶紀 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (7件)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207324
公開番号（公開出願番号）：特開2004-049953
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】撹拌装置を省略し構成の簡素化を図るとともに、処理水の水質や流量の変化に対しても常に所望の消毒効果を得ること。【解決手段】本発明の消毒システムによれば、処理水Wの流量を測定する流量計22a、流量計22aセンサによって測定された流量に基づいて処理水Wに照射する紫外線の照射量を決定する照射量決定手段、照射量決定手段によって決定された照射量で処理水Wに向けて紫外線を照射する照射手段を備えた紫外線消毒装置1と、塩素を注入することによって処理水Wを消毒する塩素注入装置とを備えてなる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
紫外線を照射することによって対象水を消毒する紫外線消毒装置において、 前記紫外線の照射量を自在に制御する照射量制御機能付きの照射手段を備えた紫外線消毒装置。
IPC (2件)：
C02F1/32 ,  C02F1/50
FI (11件)：
C02F1/32 ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 531M ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560C
Fターム (9件)：
4D037AA02 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D037CA16
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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