特許

J-GLOBAL ID：200903059926662228

放電プラズマ処理方法

発明者： 岩根 和良
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-364593
公開番号（公開出願番号）：特開2003-168597
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 搬送される被処理体の表面を安定して、かつを均一に処理できる放電プラズマ処理方法の提供。【解決手段】 少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の平行平板型電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理体を処理する放電プラズマ処理において、被処理体とプラズマ発生部とを相対的に平行に回転させ、かつ水平に移動させながら処理することを特徴とする放電プラズマ処理方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理体を処理する放電プラズマ処理において、被処理体とプラズマ発生部とを相対的に平行に回転させ、かつ水平に移動させながら処理することを特徴とする放電プラズマ処理方法。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/24

FI (5件)：

H05H 1/46 M ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 C

Fターム (41件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA25 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075EC21 ,  4G075ED08 ,  4G075ED13 ,  4G075FB02 ,  5F004AA01 ,  5F004AA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA03 ,  5F004BA04 ,  5F004BB24 ,  5F004CA05 ,  5F004DA02 ,  5F004DA07 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DB31 ,  5F045AA08 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AC01 ,  5F045AC05 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC14 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AE29 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045EH13 ,  5F045EM10