特許
J-GLOBAL ID：200903059954407349
荷電粒子ビーム露光方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-279474
公開番号（公開出願番号）：特開平8-139005
出願日： 1994年11月14日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】荷電粒子ビームにより連続的に走査する際に、レジスト感度や荷電粒子ビームの電流密度の変化により射出クロックが変化してもビームの偏向位置精度を保証すると共に、露光パターンのシャープネスの劣化を防止する。【構成】所望のパターンに基づいて、オン/オフ制御されるブランキング・アパーチャ27の開口が連続的に一方向に移動するように制御することにより、実質的にブランキング・アパーチャ・アレイによって整形されたビームを連続的に一方向へ基板上においてスウィープするステップと、所望のパターンに応じたディジタル副偏向データをアナログ副偏向信号に変換するディジタル・アナログ変換器に、1つのスウィープ偏向領域の少なくとも複数点でディジタル副偏向データをセットするステップと、ディジタル・アナログ変換器の出力するアナログ副偏向信号を直線的に増大するアナログスウィープ回路のアナログ出力の傾きを定期的に設定する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを、ブランキング・アパーチャ・アレイと、主偏向器と、該主偏向器より小さい偏向領域内で荷電粒子ビームを偏向させる副偏向器とを介して基板上に照射して所望のパターンを該基板上に露光する荷電粒子ビーム露光方法において、該基板上の1つのスウィープ偏向領域を該荷電粒子ビームにより連続的に走査させるため、該ブランキング・アパーチャ・アレイのブランキング・アパーチャのオン/オフを、該所望のパターンに基づいて、且つ、オン/オフの制御をされるブランキング・アパーチャの開口が連続的に一方向に移動するように制御することにより、実質的にブランキング・アパーチャ・アレイによって整形されたビームを連続的に該一方向へ基板上においてスウィープするステップと、該所望のパターンに応じたディジタル副偏向データをアナログ副偏向信号に変換するディジタル・アナログ変換器に、該1つのスウィープ偏向領域の少なくとも複数点で該ディジタル副偏向データをセットするステップと、該ディジタル・アナログ変換器の出力するアナログ副偏向信号を直線的に増大するアナログスウィープ回路のアナログ出力の傾きを定期的に設定するステップとからなり、該副偏向器を該スウィープ回路のアナログ出力に基づいて制御する、荷電粒子ビーム露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 B
