特許
J-GLOBAL ID：200903059955110951
光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-181195
公開番号（公開出願番号）：特開平9-033742
出願日： 1995年07月18日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【目的】 光導波路のコア部の光吸収損失が少なくかつ製造工程を低減した光導波路の製造方法を提供する。【構成】 基板10上に第1感光性塗布ガラス層を形成した後、該第1感光性塗布ガラス層に対し加熱および光照射を同時に行って下側けい酸ガラス層14を形成する工程と、下側けい酸ガラス層上に第2感光性塗布ガラス層を形成した後、第2感光性塗布ガラス層に対し部分的光照射および現像を行ってコアパターン18を形成する工程と、コアパターンを重水で処理して重水処理済みコアパターン20を形成する工程と、その後、重水処理済みコアパターンを含む下側けい酸ガラス層の表面全体に重水処理済みコアパターンを埋め込むようにして第3感光性塗布ガラス層22を形成した後、第3感光性塗布ガラス層に対し加熱および光照射を同時に行って上側けい酸ガラス層24を形成して重水処理済みコアパターン、下側けい酸ガラス層および上側けい酸ガラス層からなる光導波路25を形成する工程を含む。
請求項（抜粋）：
(a)基板上に第1感光性塗布ガラス層を形成した後、該第1感光性塗布ガラス層に対し加熱および光照射を同時に行って下側けい酸ガラス層を形成する工程と、(b)該下側けい酸ガラス層上に第2感光性塗布ガラス層を形成した後、該第2感光性塗布ガラス層に対し部分的光照射および現像を行ってコアパターンを形成する工程と、(c)前記コアパターンを重水で処理して重水処理済みコアパターンを得る工程と、(d)その後、前記重水処理済みコアパターンを含む前記下側けい酸ガラス層の表面全体に前記重水処理済みコアパターンを埋め込むようにして第3感光性塗布ガラス層を形成した後、該第3感光性塗布ガラス層に対し加熱および光照射を同時に行って上側けい酸ガラス層を形成することにより、前記重水処理済みコアパターン、前記下側けい酸ガラス層および上側けい酸ガラス層からなる光導波路を形成する工程とを含むことを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
