特許
J-GLOBAL ID:200903059962198970

全反射減衰を利用した測定方法および測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳田 征史 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-095706
公開番号(公開出願番号):特開2003-294614
出願日: 2002年03月29日
公開日(公表日): 2003年10月15日
要約:
【要約】【課題】 全反射減衰を利用した測定装置において測定効率を低下させずに、個々の測定チップ間の測定感度のバラツキの影響を低減し、測定精度を向上させる。【解決手段】 レーザ光源14A...から射出された光ビーム13A...を入射光学系15A...を通して誘電体ブロック10A...に並列的に入射させ、誘電体ブロック10A...で反射された各光ビーム13′A...を光検出器17A...で個別に受光し各測定チップ毎の全反射減衰角を検出する。試料液11を測定チップ9A...内に滴下し、測定開始から所定時間毎に全反射減衰角の角度変化量を求める。測定開始から測定終了時までの全反射減衰角の角度変化量が基準角度より大きい測定チップのみを洗浄し、既知屈折率の複数の参照試料液を用いて全反射減衰角を求めて、この測定チップの測定感度校正データを取得し、この測定チップで測定した全反射減衰角の角度変化量を校正する。
請求項(抜粋):
光ビームを発生させる光源と、前記光ビームに対して透明な誘電体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された薄膜層、この薄膜層の表面上に配されて、試料液中の特定物質と結合するセンシング物質、およびこのセンシング物質の表面上に前記試料液を保持する試料液保持部を備えてなる測定チップと、前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られるように種々の入射角で入射させる光学系と、前記界面で全反射した光ビームの強度を検出する光検出手段と、該光検出手段の検出結果に基づいて、時間経過に伴う全反射減衰の状態の変化量を測定する測定手段とを備えた全反射減衰を利用した測定装置を用いた測定方法において、前記測定手段による前記変化量の測定開始から所定時間経過後の変化量が、予め設定された所定値以上であるか否かを判定し、該変化量が前記所定値以上であると判定された測定チップについてのみ該測定チップの測定感度校正データを取得し、取得された該測定感度校正データに基づいて、前記変化量を校正することを特徴とする全反射減衰を利用した測定方法。
IPC (2件):
G01N 21/27 ,  G01N 21/03
FI (3件):
G01N 21/27 C ,  G01N 21/27 F ,  G01N 21/03 Z
Fターム (17件):
2G057AA02 ,  2G057AB04 ,  2G057AB07 ,  2G057AC01 ,  2G057BA01 ,  2G057BB01 ,  2G057BB06 ,  2G059BB04 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059KK04 ,  2G059MM09 ,  2G059MM12

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