特許

J-GLOBAL ID：200903059973534750

SF6ガス再生装置

発明者： 椿 徹 ,  梅根 巌 ,  玉田 慎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立エンジニアリングサービス ,  昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-091843
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277353
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】SF6 ガスを必要最小限の時間で、かつ適切な純度に自動的に再生することが可能なSF6 ガス再生装置を提供する。【解決手段】フィルターユニット2を有するSF6 ガス循環系を備え、前記循環系にガス絶縁機器1内のSF6 ガスを導入循環させ、ガス絶縁機器内のSF6 ガスを再生するように形成されているSF6 ガス再生装置において、前記循環系に、前記フィルターユニット2で処理されたガスを分析する分析ユニット3と、この分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値以下と判断された時は再び前記フィルターユニットに戻す循環手段(8,41,71)と、前記分析ユニット3で分析されたSF6 ガスの純度が設定値を超えたと判断された時は処理されたSF6ガスを前記ガス絶縁機器1に戻す帰還手段(5,6,10)とを設けた。

請求項（抜粋）：

フィルターユニットを有するSF6 ガス循環系を備え、この循環系にガス絶縁機器内のSF6 ガスを導入循環させ、前記フィルターユニットを介してガス絶縁機器内のSF6 ガスを再生するように形成されているSF6 ガス再生装置において、前記循環系に、前記フィルターユニットで処理されたガスを分析する分析ユニットと、この分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値以下と判断された時は再び前記フィルターユニットに戻す循環手段と、前記分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値を超えたと判断された時は処理されたSF6 ガスを前記ガス絶縁機器に戻す帰還手段とを設けたことを特徴とするSF6 ガス再生装置。

IPC (4件)：

B01D 53/30 ,  B01D 53/02 ,  H01H 33/57 ,  H02B 13/055

FI (4件)：

B01D 53/30 ,  B01D 53/02 Z ,  H01H 33/57 B ,  H02B 13/06 M

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 大電力試験場におけるSF6ガス回数装置