特許
J-GLOBAL ID：200903059986380531
レジスト現像液
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079571
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289551
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 高集積素子、マスク、レチクル、固体撮像素子、液晶表示素子等微細加工時に用いられる有機溶媒現像タイプのネガ型レジストについて、レジストの解像度の向上が図れる有用な現像液を提供する。【構成】 0.0≦膨潤度≦3なる条件を満たす有機溶媒と膨潤度≧5なる条件を満たす有機溶媒の組み合わせ、3≦膨潤度≦5なる条件を満たす有機溶媒、3≦膨潤度≦5なる条件を満たす有機溶媒と0.0≦膨潤度≦3なる条件を満たす有機溶媒の組み合わせ、3≦膨潤度≦5なる条件を満たす有機溶媒と膨潤度≧5なる条件を満たす有機溶媒の組み合わせからなるレジスト現像液。
請求項（抜粋）：
エネルギー感光性ネガ型レジストを基盤に塗布、ベーク、露光した後に有機溶媒を用いて現像する系で使用されるレジスト現像液において、0.0≦膨潤度≦3なる条件を満たす有機溶媒と、膨潤度≧5なる条件を満たす有機溶媒の組み合わせからなることを特徴とするレジスト現像液。
IPC (2件)：
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