特許

J-GLOBAL ID：200903060009395936

磁気転写方法および磁気転写装置

発明者： 小松 和則 ,  長尾 信 ,  西川 正一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-172955
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101657
出願日： 2000年06月09日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 磁気転写によって、磁気パターンの位置によらずに、品位の高い転写パターンを磁気転写によってマスター担体からスレーブ媒体へ転写する。【解決手段】 基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と、転写を受けるスレーブ媒体である磁気記録媒体を接触して転写用磁界を印加する磁気転写方法において、スレーブ媒体とマスター担体とを密着した状態で、スレーブ媒体の保磁力Hcsの1.5倍の強度の磁界で初期直流磁化した後に、スレーブ媒体と転写用マスター担体とを密着した状態で、初期直流磁化方向と逆方向の磁界を与えて磁気転写用マスター担体の記録情報を転写する磁気転写方法。

請求項（抜粋）：

基板の表面の情報信号に対応する部分に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて転写用磁界を印加する磁気転写方法において、磁気転写の前に行う初期磁化を磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体とを密着させた状態で行うことを特徴とする磁気転写方法。

IPC (3件)：

G11B 5/86 ,  G11B 5/86 101 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

G11B 5/86 C ,  G11B 5/86 101 B ,  G11B 5/84 Z

Fターム (4件)：

5D112AA24 ,  5D112DD00 ,  5D112DD09 ,  5D112GA00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭57-109134