特許
J-GLOBAL ID：200903060026842865

投影光学系、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス

発明者：
吽野 靖行

吽野 靖行 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-085919
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279854
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：
【要約】【課題】 残存真性複屈折の影響を補正することによって所望の光学性能をもたらす投影光学系、露光装置、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。【解決手段】 露光波長において真性複屈折(intrinsic birefringence)を示す光学結晶材料から構成される複数のエレメントを有し、前記真性複屈折の影響を最小化するように前記エレメントの結晶軸の光軸に対する配置が最適化されている投影光学系において、前記投影光学系の組み立て後に残存する前記真性複屈折の影響を補正する複屈折補正部材を前記投影光学系内に配置したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
真性複屈折(intrinsic birefringence)を示す光学結晶材料から構成される複数のエレメントを有し、前記真性複屈折の影響を小さくするように前記エレメントの結晶軸の光軸に対する配置が決められている投影光学系において、前記投影光学系に残存する前記真性複屈折の影響を補正する複屈折補正部材を有することを特徴とする投影光学系。
IPC (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 7/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 7/02 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (9件)：
2H044AC00 ,  2H087KA21 ,  2H087NA01 ,  2H087NA04 ,  2H087RA42 ,  2H087RA43 ,  5F046BA03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25
引用特許：
審査官引用 (2件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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