特許

J-GLOBAL ID：200903060038270107

ボラジン含有ケイ素系ポリマーの薄膜の製造方法及びボラジン含有ケイ素ポリマー

発明者： 内丸 祐子 ,  山下 浩
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-068771
公開番号（公開出願番号）：特開2002-155143
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：

【要約】【課題】 耐燃焼性、耐熱性コーティング膜等として有用なボラジン含有ケイ素系ポリマーの薄膜の効率的な製造方法と、新規なボラジン含有ケイ素系ポリマーを提供する。【解決手段】 B,B’,B”-トリアルキニルボラジン化合物と、少なくとも2個のヒドロシリル基を有するケイ素化合物とを、白金触媒の存在下に混合し、その溶液を基材上に塗布することにより、ボラジン含有ケイ素系ポリマーの薄膜を製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R1はアルキル基、アリール基、アラルキル基または水素原子を示し、R2はアルキル基、アリール基、アラルキル基または水素原子を示す)で表されるB,B’,B”-トリアルキニルボラジン化合物と少なくとも2個以上のヒドロシリル基を有するケイ素化合物とを、白金触媒存在下で混合し、その溶液を塗布することを特徴とするボラジン含有ケイ素系ポリマーの薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

C08G 77/22 ,  C09D183/05 ,  C09D185/04

FI (3件)：

C08G 77/22 ,  C09D183/05 ,  C09D185/04

Fターム (21件)：

4J035BA02 ,  4J035CA021 ,  4J035CA22M ,  4J035CA28M ,  4J035CA28N ,  4J035HA03 ,  4J035HA04 ,  4J035HB02 ,  4J035HB03 ,  4J035LB01 ,  4J038DL041 ,  4J038DM011 ,  4J038HA106 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038KA04 ,  4J038NA14 ,  4J038NA15 ,  4J038PA18 ,  4J038PA19 ,  4J038PC03