特許

J-GLOBAL ID：200903060041652614

基板処理装置及び処理方法

発明者： 田崎 義英
出願人/特許権者： 宮崎沖電気株式会社 ,  沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-018511
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213610
出願日： 1996年02月05日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：

【要約】【課題】 基板を現像または洗浄する液を効果的に使用して、少量で有効的に現像または洗浄をすることが可能な基板処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】 基板1と対向して配置される蓋13に現像液2に浸される羽根15を設け、基板1に一方向の回転を与えるとともに羽根15に往復回転を与え、現像液2を羽根15で攪拌しながら現像処理を行うようにした。

請求項（抜粋）：

基板上に吐出された現像用または洗浄用の液で前記基板表面の現像または洗浄を行う基板処理装置において、前記液に浸される羽根を有して前記基板と対向して配置される蓋と、前記液に前記羽根を浸して少なくとも前記基板または前記羽根の一方を回転させる手段、とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 F