特許
J-GLOBAL ID：200903060051652833
気液分散装置及び気液接触装置並びに廃水処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-213633
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118473
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：
【要約】【課題】 気体の脈流や偏流をなくして空塔入口、触媒等の充填物入口に、良好な気液分布状態を発生させることのできる気液分散装置及び気液接触装置を提供する。【解決手段】 液体が連続相を形成して流れ、気体が上向きに流れる系に配置される気液分散装置において、気液混相状態が形成される気液流路を遮断するように配置される多孔板1と、その多孔板1の気体流路入口側に向けて液導通路を延設することにより液導通部と気体分散部に分割する。気液が供給されると、分散装置の気体分散部入口側に気相が蓄積形成されて気液の脈流が抑止された状態で、液体は液導通路を通過し、気体は液導通路を除く多孔板1の貫通孔を通過する。
請求項（抜粋）：
液体が連続相を形成して流れ、気体が上向きに流れる系に配置される気液分散装置において、気液混相状態が形成される気液流路を遮断するようにして多孔板を配置し、その多孔板から気体流路入口側に向けて、仕切られた通路からなる液導通路を延設し、前記気体は前記多孔板を通過させることにより分散させ、前記液体は前記液導通路に案内して通過させるように構成してなることを特徴とする気液分散装置。
IPC (6件)：
B01F 3/04
, B01D 3/22
, B01J 10/00 101
, C02F 1/74 101
, C02F 1/78 ZAB
, C02F 11/08 ZAB
B01F 3/04 Z
, B01D 3/22 Z
, B01J 10/00 101
, C02F 1/74 101
, C02F 1/78 ZAB
, C02F 11/08 ZAB
