特許
J-GLOBAL ID：200903060055518805
IrMn系合金成膜用ターゲット、その製造方法およびそれを用いた反強磁性膜
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-051669
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246967
出願日： 1998年03月04日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 スパッタ時の放電安定性に優れ、かつスパッタ時に発生する熱応力によってもターゲット割れが発生せず、スパッタ成膜した反強磁性膜の交換結合磁界も大きなIrMn系合金成膜用ターゲットを提供する。【解決手段】 IrMn系反強磁性合金ターゲットの組織中にIr相を分散して存在させ、かつターゲット中の酸素量を3000ppm以下に制御する。製造方法としては、Ir粉末、Mn粉末、Mn-X合金粉末あるいはX粉末(XはFe,Ni,Cu,Ta,Hf,Pd,Ti,Nb,Cr,W,Zr,Mo等の少なくとも1種)を所望量配合し、混合粉末の液相発現温度より低い温度で、加圧焼結を行う。
請求項（抜粋）：
組織中にIrが存在し、このIrはIrMn合金を介して分散されていることを特徴とするIrMn系合金成膜用ターゲット。
IPC (7件)：
C23C 14/34
, C22C 1/04
, C22C 5/04
, C22C 22/00
, H01F 41/18
, G11B 5/39
, H01L 43/12
C23C 14/34 A
, C22C 1/04
, C22C 5/04
, C22C 22/00
, H01F 41/18
, G11B 5/39
, H01L 43/12
