特許

J-GLOBAL ID：200903060057268997

液晶表示装置のブラックマトリックス形成方法

発明者： 權 章赫
出願人/特許権者： 三星電管株式會社
代理人 (1件)： 和田 成則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-116363
公開番号（公開出願番号）：特開平9-096807
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：

【要約】【課題】 重金属汚染を招かず、かつ後のフィルタ形成工程で平滑性を低下させない液晶表示装置のブラックマトリックス形成方法を提供する。【解決手段】 図Aに示した基板31上にフォトレジスト層32を塗布し(図B)、次にフォトレジスト層32を露光及び現像することにより基板31が露出された部分とフォトレジスト32′で覆われている部分とを形成する(図C)。次に、ブラックマトリックス33をフォトレジスト32′上にスピン塗布する(図D)。ブラックマトリックス材料は黒鉛又は高分子樹脂に基づいた材料である。次に、フォトレジスト32′とブラックマトリックス33とが塗布されている基板31を約0.5〜3%のNaOH溶液に浸した後、高圧で水を噴射させることによって、所定パターンのフォトレジスト32′及び該フォトレジスト32′を覆っているブラックマトリックス33は取り除かれ、基板31に完成されたブラックマトリックス33′が残る(図E)。

請求項（抜粋）：

基板の全面にフォトレジストを塗布する段階と、露光及び現像過程を通じて前記基板をフォトレジストで積層された部分と露出された部分とに分けて形成するフォトレジストのパターン形成段階と、前記所定パターンのフォトレジストの形成された基板の全面にブラックマトリックス材料を塗布する段階と、前記フォトレジストのパターン形成段階で前記基板の露出された部分に積層されたブラックマトリックス材料のみ前記基板上に残るように、前記所定パターンのフォトレジストとその上部に積層されたブラックマトリックス材料をストリッピングする段階と、を具備することを特徴とする液晶表示装置のブラックマトリックス形成方法。

IPC (6件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/16

FI (6件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/16