特許

J-GLOBAL ID：200903060057692047

高粘度レジスト塗布装置及び塗布方法

発明者： 中村 博亘
出願人/特許権者： 関西日本電気株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-290451
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100595
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、高粘度のレジスト液を供給する場合においても、容器と送液用ポンプ間の配管内の負圧を無くすことで、気泡の発生や混入を防止し、ピンホール、塗布ムラ、膜厚変動の少ない高品質のレジスト膜が得られる高粘度レジスト塗布装置及び塗布方法を提供することである。【解決手段】 本発明の高粘度レジスト塗布装置101におけるレジスト供給部14は、レジスト液を収納する容器15と、容器15内にN2ガスを導入するための開閉バルブ16と、送液用ベローズポンプ17と、圧力調整用ベローズポンプ18と、2種類のベローズポンプに直結した駆動軸19及びエアーシリンダ20とで構成される。

請求項（抜粋）：

ウェハのレジスト塗布面に高粘度レジスト液を回転塗布する装置であって、ウェハを吸着保持するチャック部と、チャック部を回転軸周りに回転させる回転駆動部と、レジストノズルにレジスト液を供給するレジスト供給部を備え、前記レジスト供給部に同一エアーシリンダで伸縮駆動する送液用ベローズポンプと圧力調整用ベローズポンプを備えることを特徴とする高粘度レジスト塗布装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

FI (4件)：

B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (18件)：

2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC82 ,  4D075BB56X ,  4D075BB57X ,  4D075DA08 ,  4D075DB11 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042CB02 ,  4F042EB09 ,  4F042EB11 ,  5F046JA01