特許

J-GLOBAL ID：200903060066054991

1端部に空洞が形成されている装置の製造方法

発明者： ギュンター・イーゲル ,  マルティン・マール
出願人/特許権者： ミクロナス・インターメタル・ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-109623
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061444
出願日： 1998年04月20日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、装置本体の1端部に光ファイバ等を収容するための空洞を簡単に形成するための製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基体1 上にエッチングストップ層2 を介してエッチングされる材料層3 が付着されている本体に凹部4 を形成し、本体よりも低いエッチング速度のマスク層5 を本体および凹部表面に形成し、凹部4 の近辺のマスク層5 に開口6 を形成し、開口から開始してマスク層5 の下にマスク層5 とエッチングストップ層2 との間の材料層3 を除去して空洞7 を形成するように本体に等方性エッチング処理を行い、マスク層5 は基本的に保持されて凹部領域の空洞端部において空洞中へ突出して延在する構造物10が形成されることを特徴とする。空洞中に挿入された光ファイバ8 はこの構造物10によって規定された間隔に位置されることができる。

請求項（抜粋）：

1端部に空洞が形成されている装置の製造方法において、本体に凹部を形成し、本体よりも低いエッチング速度のマスク層を本体および凹部表面に形成し、凹部近辺のマスク層に開口を形成し、開口から開始してマスク層の下に空洞を形成するように本体に等方性エッチング処理を行うステップを含み、マスク層は基本的に保持されて凹部領域の空洞端部において空洞中へ突出して延在する構造物が形成されることを特徴とする製造方法。

IPC (5件)：

C23F 1/00 102 ,  C23F 4/00 ,  G01L 9/04 101 ,  G02B 6/24 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

C23F 1/00 102 ,  C23F 4/00 Z ,  G01L 9/04 101 ,  G02B 6/24 ,  H01L 21/302 J