特許
J-GLOBAL ID：200903060087894183
多孔親水性高分子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高島 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-361942
公開番号（公開出願番号）：特開2000-169620
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：
【要約】【課題】 従来多孔化に困難性のある親水性高分子成型体の内部に空孔を設けた多孔親水性高分子の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、親水性高分子基材の実体内で無機多孔結晶を形成する反応性物質の水溶液の少なくとも1種を残して、他の反応性物質の水溶液を親水性高分子基材の実体内に含浸させた後、無機多孔結晶形成用の残る反応性物質の水溶液を、一度にまたは別個に親水性高分子基材の実体内に含浸させることにより無機多孔結晶の反応性物質を反応させて生成する平均粒径0.1〜20μmの無機多孔結晶であって、該無機多孔結晶が10000μm2 換算当たり5〜105 個存在する無機多孔結晶-親水性高分子複合体から無機多孔結晶を酸性浴で除去する多孔親水性高分子の製造方法である。
請求項（抜粋）：
親水性高分子基材の実体内で無機多孔結晶を形成する反応性物質の水溶液の少なくとも1種を残して、他の反応性物質の水溶液を親水性高分子基材の実体内に含浸させた後、無機多孔結晶形成用の残る反応性物質の水溶液を、一度にまたは別個に親水性高分子基材の実体内に含浸させることにより無機多孔結晶の反応性物質を反応させて生成する平均粒径0.1〜20μmの無機多孔結晶であって、該無機多孔結晶が10000μm2 換算当たり5〜105 個存在する無機多孔結晶-親水性高分子複合体から無機多孔結晶を酸性浴で除去する多孔親水性高分子の製造方法。
Fターム (19件)：
4F074AA02
, 4F074AA27
, 4F074AA31
, 4F074AA32
, 4F074AA42
, 4F074AC12
, 4F074AC28
, 4F074AD09
, 4F074BA08
, 4F074BA29
, 4F074BC15
, 4F074CB03
, 4F074CB04
, 4F074CB13
, 4F074CB22
, 4F074CB27
, 4F074CB43
, 4F074CC45
, 4F074DA53
