特許
J-GLOBAL ID：200903060088916350
マイクロ波プラズマCVD法により大面積の機能性 堆積膜を連続的に形成する方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荻上 豊規
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-141316
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333852
出願日： 1993年05月21日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 大面積に亘って均一に、且つ高速で機能性堆積膜を形成することを可能にするマイクロ波プラズマCVD方法及び装置を提供すること。【構成】 マイクロ波エネルギーをマイクロ波の進行方向に対して垂直な全方向に放射させるようにしたマイクロ波アンテナより放射されたマイクロ波の電界方向と全面的に直交することはなく、前記マイクロ波の進行方向に延在する複数の仕切り板で構成されるプラズマ制御手段を介して前記マイクロ波エネルギーを放射させて、マイクロ波プラズマを成膜空間内で生起せしめる構成を包含するマイクロ波プラズマCVD方法及び装置。【効果】 連続して安定に且つ均一にマイクロ波放電が維持でき、それが故に長尺の帯状部材上に長時間連続して、安定した特性の機能性堆積膜を堆積形成できる。
請求項（抜粋）：
長手方向に帯状部材を連続的に移動せしめながら、その中途で前記移動する帯状部材を側壁にした実質的に真空に保持し得る柱状の成膜空間を形成し、該成膜空間内にガス供給手段を介して成膜用原料ガスを導入し、同時にマイクロ波アンテナより、該マイクロ波アンテナに近接して設けた、前記マイクロ波アンテナ手段によりマイクロ波の進行方向に垂直な全方向に放射されたマイクロ波の電界方向と全面的に直交することはなく、前記マイクロ波の進行方向に延在する複数の仕切り板で構成されるプラズマ制御手段を介して前記マイクロ波エネルギーを放射させて、マイクロ波プラズマを前記成膜空間内で生起せしめ、前記マイクロ波プラズマに曝される前記側壁を構成し連続的に移動する前記帯状部材の表面上に堆積膜を形成せしめることを特徴とするマイクロ波プラズマCVD法により大面積の機能性堆積膜を連続的に形成する方法。
IPC (2件)：
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